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冠亚恒温有丰富的半导体行业产品控温经验，产品覆盖光刻、刻蚀、薄膜沉积、抛光等多种过程控温。
产品包括：制冷加热循环器Chiller，低温制冷Chiller，无压缩机换热单元等，控温精度高达±0.05℃
SOLUTION
半导体制造是一个对环境要求极高的过程，许多工艺步骤对温度非常敏感。
例如，在光刻工艺中，光刻机的光学系统需要在稳定的温度环境下工作，因为温度的微小变化可能导致光路的偏差，进而影响光刻的精度。在化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）等工艺中，反应温度直接影响薄膜的质量和性能。精确的温度控制能够确保沉积的薄膜厚度均匀、成分准确，从而提高芯片的性能和良率。
单通道 Single Channel Chiller
—控温精度可达±0.05℃（出口温度稳态）
单通道系列Chiller加载情况下控温精度高，可在-100℃~+90℃之间任意切换，具有良好的温度跟随性；先进的低温制冷技术，支持-100℃~ -80℃超低温控温。
双通道 Dual Channel Chiller
—双通道独立控温
FLTZ系列双通道Chillers主要用于半导体制程中对反应腔室温度的精准控制，公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），显著提升系统的响应速度、控制精度和稳定性。
三通道 Triple Channel Chiller
—三通道独立控温
FLTZ系列三通道Chillers主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制，系统支持三个通道独立控温，每个通道有独立的温度范围、冷却加热能力、导热介质流量等。
冠亚恒温
