液晶面板制程清洗：超纯水温控系列应用

2026年5月12日行业新闻半导体chiller70

液晶面板制程清洗是保障面板显示质量的关键，需去除玻璃基板表面的油污、颗粒、光刻胶残留等杂质，超纯水的温度与洁净度直接影响清洗效果与面板良率。

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超纯水温控系列设备适配该场景，提供稳定温控支持。液晶面板玻璃基板轻薄，热膨胀系数min感，温度波动易导致基板变形或破损。

设备温度范围 + 15℃至 + 40℃，控温jing度 ±0.1℃，可jing准控制清洗水温，减少温度偏差对基板的影响，保障尺寸稳定性。介质采用超纯水，电导率 10-18MΩ・cm，低离子特性可避免金属离子残留，内置高jing度过滤器，有xiao去除介质中的颗粒杂质，避免划伤基板表面，提升清洗良率。

适配面板制程清洗的两种运行模式：冲洗型模式输出新鲜超纯水，适配阵列基板、彩膜基板的jing细清洗；循环型模式闭环复用介质，适配量产线批量清洗工序，降低超纯水消耗成本。设备结构适配面板产线大流量、连续运行需求，采用大流量变频循环泵，保障清洗工位供水稳定；管路采用低阻力设计，减少压力损失，适配多喷头清洗工况；变频压缩机根据负载调节功率，降低能耗。