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半导体用高精度光刻冷水机采用多级制冷、闭环温控与光刻设备协同研究

2025年7月10日 124

半导体光刻工艺对温度环境的稳定性要求比较高，微小的温度波动可能导致光刻图案失真，影响芯片良率。光刻冷水机通过准确的温度控制与调节机制，为光刻设备提供稳定的热管理支持，其工作原理与应用特性适配光刻环节的技术需求。

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