变频深冷机为半导体制造过程工艺提供冷源

2025年4月10日 313

光刻工艺：需快速冷却光刻机光源组件（如激光器、透镜），避免温度波动导致光刻胶黏度变化，影响曝光精度。变频深冷机通过动态调节压缩机转速，实现±0.1℃温控精度，保障芯片分辨率。

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