新闻中心
News

变频深冷机为半导体制造过程工艺提供冷源
光刻工艺:需快速冷却光刻机光源组件(如激光器、透镜),避免温度波动导致光刻胶黏度变化,影响曝光精度。变频深冷机通过动态调节压缩机转速,实现±0.1℃温控精度,保障芯片分辨率。
详细信息
热风循环系统支持宽域控温非标定制
热风循环系统作为电子设备高低温恒温测试的核心冷热源,通过的热交换和强制空气循环技术,为电子元器件、半导体器件、光模块等提供准确的温度控制环境。以下是其工作原理、技术优势及具体应用的详细解析:
详细信息
快速冲击热流仪丨30℃/min温变速率,精密检测实验室机型
在检测实验室中,快速冲击热流仪通过30℃/min温变速率和控温技术,为半导体、电子、航空航天等制造领域提供严苛的热可靠性测试方案。其核心优势体现在温变速率、控温精度、测试效率三大维度:
详细信息
刻蚀工艺冷却chiller应用案例
在半导体制造过程中,刻蚀工艺是关键步骤之一,用于在硅片上准确地去除材料以形成微米或纳米级别的结构。Chiller(冷却机)在此工艺中扮演着影响比较大的角色,以下是刻蚀工艺中Chiller应用的一些案例
详细信息
薄膜沉积工艺冷却chiller应用案例
在薄膜沉积工艺中,Chiller(冷却机)的应用影响比较大,因为准确的温度控制可以确保薄膜的质量和均匀性。以下是一些薄膜沉积工艺中Chiller的应用案例
详细信息
冠亚恒温








