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上海 2025 SEMICON China展会首日告捷！冠亚恒温闪耀亮相，精彩花絮抢先看！
作为国内极具影响力的半导体行业盛会2025 SEMICON China终于拉开帷幕今天是展会的第一天场内场外十分热闹
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快速冲击热流仪丨30℃/min温变速率，精密检测实验室机型
在检测实验室中，快速冲击热流仪通过30℃/min温变速率和控温技术，为半导体、电子、航空航天等制造领域提供严苛的热可靠性测试方案。其核心优势体现在温变速率、控温精度、测试效率三大维度：
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春风十里，不如妳的笑容明媚
在这个专属女性的节日里， 冠亚恒温为每一位闪闪发光的“她” 准备了心意满满的福利 愿妳被时光温柔以待，绽放光芒 冠亚恒温·节日福利 这个三月，把宠爱写在细节里💖 愿每一位努力生活的你， 都能在冠亚恒温大家庭里， 收获温暖、自信与成长！ 愿你无畏前行， 一路芬芳，祝亲爱的你，节日快乐 ,
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刻蚀工艺冷却chiller应用案例
在半导体制造过程中，刻蚀工艺是关键步骤之一，用于在硅片上准确地去除材料以形成微米或纳米级别的结构。Chiller（冷却机）在此工艺中扮演着影响比较大的角色，以下是刻蚀工艺中Chiller应用的一些案例： 案例一：干法刻蚀工艺冷却 应用描述：干法刻蚀，如等离子体刻蚀，会产生大量的热量，这可能会影响刻蚀的均匀性和准确度。因此，需要Chiller来控制刻蚀反应室的温度。 解决方案：使用Chiller为刻蚀设备提供冷却水，保持反应室内的温度稳定，减少热量对刻蚀过程的影响。 效果：刻蚀工艺冷却chiller通...
详细信息薄膜沉积工艺冷却chiller应用案例
在薄膜沉积工艺中，Chiller（冷却机）的应用影响比较大，因为准确的温度控制可以确保薄膜的质量和均匀性。以下是一些薄膜沉积工艺中Chiller的应用案例： 案例一：物理气相沉积（PVD）工艺冷却 应用描述：在PVD过程中，如磁控溅射或蒸发镀膜，靶材和基底需要维持在特定的温度范围内以保证薄膜的质量和附着力。 解决方案：使用Chiller为PVD设备提供准确的温度控制，通过冷却循环系统维持靶材和基底的温度。 效果：薄膜沉积工艺冷却chiller通过准确的温度控制，提高了薄膜的均匀性和附着力，减少了应力和...
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